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高纯铜颗粒_6N5超纯铜蒂姆新材料北京铜粒 Cu

来源：张慧慧|

发表时间：2020-11-30

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蒂姆（北京）新材料科技有限公司可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺金属氧化物靶材。常用参数：靶材纯度：99.9%、99.95%、99.99% 制备工艺：热等静压、常温烧结等靶材形态：平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶圆靶尺寸：φ25.43mm、φ503mm、φ50.84mm、φ603mm、φ76.23mm、φ804mm、φ101.65mm、φ152.46mm 尺寸可定制方靶尺寸：50503mm、1001004mm、3003005mm 尺寸可定制绑定服务：陶瓷靶材亦可提供铜背靶铟焊绑定服务，提高陶瓷靶材导电导热性，提高使用效率包装方式：真空包装


化学式	品名	纯度（%）	致密度	品牌	适用设备
SiO2	二氧化硅靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
HfO2	二氧化铪靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
TiO2	二氧化钛靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
ZrO2	二氧化锆靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
WO3	三氧化钨靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Nb2O5	五氧化二铌靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Ta2O5	五氧化二钽靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
MoO3	三氧化钼靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Sc2O3	三氧化二钪靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Al2O3	氧化铝靶材	3N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
ZnO	氧化锌靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
MgO	氧化镁靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Bi2O3	氧化铋靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Cr2O3	氧化铬靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
NiO	氧化镍靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
V2O5	氧化钒靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Y2O3	氧化钇靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
AZO	氧化锌铝靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
ITO	氧化铟锡靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
CeO2	二氧化铈靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Er2O3	氧化铒靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Sm2O3	氧化钐靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Nd2O3	氧化钕靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪
Fe3O4	氧化铁靶材	4N	＞80%	蒂姆新材料	磁控溅射设备、离子溅射仪

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